陶瓷拋光機(jī)在研磨平面時(shí)，一般來說想要獲得高質(zhì)量的平面拋光，所有的工藝規(guī)律都有以下這些點(diǎn)：
1、研磨運(yùn)動(dòng)軌跡應(yīng)分布均勻而不重復(fù)，相對(duì)來說一般由研磨的行星運(yùn)動(dòng)來保證；
2、研磨盤要求材質(zhì)均勻，并有微細(xì)孔容納微粉磨料，經(jīng)過修整后可獲得平面度非常高和研磨表面;
3、采用硬度不高的軟質(zhì)或半軟質(zhì)的研磨盤，更容易獲得粗糙度低和變質(zhì)層小的表面。相反使用金剛石超硬的磨料研磨和拋光其效率更高;
4、加工工件對(duì)研磨平面要求很高時(shí)可以采用浮動(dòng)研磨盤來消除其誤差;
5、想要提高研磨效率，可以在磨料中加入化學(xué)活性物質(zhì);
6、在研磨工作時(shí)應(yīng)該在室內(nèi)環(huán)境清潔狀態(tài)中進(jìn)行，為避免粗磨料、空氣中灰塵等混入，使研磨表面劃傷從而達(dá)不到其高質(zhì)量的要求。
本文出自：http://www.hccdmic.net/mpjishu/998.html
